化学蒸汽沉淀法合成钻石

化学蒸汽沉淀法合成钻石

化学蒸汽沉淀法合成钻石(CVD)是一种使含碳气体离解出的碳原子在基底上沉积生长钻石的技术 。该方法最早于1952年应用于钻石薄膜制备,2003年已可生长出厚2mm的单晶高品质钻石晶体 。2023年实现了Ⅱa型褐色至近无色钻石的商业化生产 。

CVD法以甲烷和氢气为原料,在约0.1个大气压、800-1000℃条件下,通过微波等离子体等方式激活气体,使碳原子在钻石种晶上沉积生长 。其产品多为IIa型,晶体常呈板状,内部纯净,在DiamondView下可见层状生长纹理及蓝绿色荧光,并具有737nm特征荧光峰 。

目前该技术已能合成出10克拉的宝石级单晶钻石 ,应用于珠宝和工业领域 。国际检测机构已建立了针对CVD合成钻石的分级体系 。

想要了解更多“化学蒸汽沉淀法合成钻石”的信息,请点击:化学蒸汽沉淀法合成钻石百科